根据《Tom's Hardware》报道，日本科学家已开发出简化的EUV光刻机，可以大幅降低芯片的生产成本。

 

报道指出，冲绳科学技术学院（OIST）Tsumoru Shintake教授提出一种全新、大幅简化的EUV光刻机，相比ASML开发和制造的工具更便宜，如果该种设备大规模量产，可能重塑芯片制造设备产业的现况。

 

 

值得关注的是，新系统在光学投影设定中只使用两面镜子，与传统的六镜配置有很大不同，这种光学系统的挑战在于，它得将这些反射镜沿直线对齐，以确保系统保持较高的光学性能。

 

报道称，这种新的光路允许超过10%的初始EUV能量到达晶圆，而标准设置中的能量约为1%，这个改进是重大突破。而这种EUV光刻工具的优点，在于提高可靠性并降低了维护复杂性，以及功耗大幅降低。